搪瓷窯爐脫硝方案有哪幾種

邢臺一家搪瓷窯爐用戶，與我們公司聯(lián)系，需要安裝一套脫硝系統(tǒng)，公司技術部門通過搪瓷窯的參數(shù)，制定了SCR脫硝方案。SCR脫硝系統(tǒng)是一種爐外脫硝工藝。脫硝效率較高。

在SCR脫硝系統(tǒng)中，各種廢氣中含有的NOx和an水、尿素或其他含有氨基的物質(zhì)進行反應，生成氮氣和水。

基于經(jīng)濟性、處理難度和系統(tǒng)的角度考慮，選擇適合的含氨基的還原劑SCR系統(tǒng)主要包含了反應器、還原劑儲罐、還原劑噴射系統(tǒng)和催化劑，在還原劑噴射和煙氣進行混合之后，廢氣會進入催化劑層，脫硝反應將會在這里進行。

氮氧化合物在催化劑表面轉(zhuǎn)化成氮氣和水。當還原劑是氨的時候，化學反應方程式如下。

4NO+4NH3+O2 -> 4N2+6H2O6NO2 +8NH3 -> 7N2+12H2O

2、性能(常用范圍)

使用范圍:(燃氣、燃油、燃煤)鍋爐，汽輪機，垃圾焚燒發(fā)電廠和柴油發(fā)電機

效率:大于90%的脫硝率

運行溫度:200-420℃

氮氧化物含量:10-2,000ppm

壓降:小于1.2kPa/反應器

反應器:催化劑床層可安裝在余熱鍋爐內(nèi)

運行條件:冷啟動30分鐘以內(nèi)可以達到穩(wěn)定狀態(tài)

1)當要求的脫硝效率大于95%的時候，排放的還原劑的量會增加;

2)運行溫度的確定應該考慮煙氣中SOx的濃度，以防形成ABS，導致催化劑堵塞。

3、備注

SCR脫硝系統(tǒng)的性能主要依賴于催化劑的性能(活性，shouming等)和還原劑噴射的控制技術。

V/TiO2催化劑是通過三氧化釩離子吸附在二氧化鈦晶體上并且煅燒制成的，的運用在SCR系統(tǒng)中。

脫硝反應速度很快，所以，反應速度主要受還原劑擴散率的控制:層流邊界層和催化劑微孔處的擴散率。

催化劑技術的發(fā)展與日俱新。但是，現(xiàn)在模塊化的、用強化陶瓷纖維制成的催化劑獲得了很高的評價。這種催化劑有以下的結(jié)構。

催化劑的細粉(直徑為1- 30um)均勻的分散在陶瓷纖維的母體上。

由于反應物的擴散率是加速增長的，這種催化劑對脫硝反應有高活性和對二氧化硫有低活性:二氧化硫氧化成三氧化硫，會導致下游設備的腐蝕和飛灰沉積。

因為有很高的擴散率，反應器對運行條件的變化min感。所以有可能控制還原劑的瞬時噴射量，并將其控制在適合的范圍內(nèi)。

當反應溫度大于350℃，V/TiO2基本上都中了三氧化硫的毒，并且顯示出了長期運行的穩(wěn)定活性。

粉塵中的堿性金屬被認為是催化劑的毒物。但在正常運行條件下，他們和催化劑活性部分接觸得機會很小，它們對催化劑活性的危害不是很大。但是應該考慮Se，Zn，As的混合物和他們的蒸氣是催化劑的毒物。

模塊化的催化劑安裝在反應器的催化劑層中。它空隙部分占了有80%，所以催化劑層的壓降是很低的。在煙氣中的飛灰不是很黏的時候，飛灰也不會堵塞催化劑層。