所需的外氣較多由于半導體工廠中，制程系統需使用大量的化學品和毒氣，這些化學品和毒氣所產生的揮發氣體和廢氣必須予以全數排除，故排氣量相當大，為維持凈室壓力比外面的大氣壓力大，此時所補充的空氣量亦隨之增加。
半導體廠凈室室內壓力大小半導體廠凈室室內壓力必須比室外高些許，除了為避免室外的溫、濕度、微粒影響凈室生產區的環境條件外，并可延長凈室ULPAfilter的壽命，但不能無條件增加，如此將使向外逸散的潔凈空氣增加而增加運轉成本。
氣流分布須均勻凈室空調為帶走凈室內所產生的微塵粒子以維持潔凈度故除了氣流速度須達到一定之要求標準外，氣流的流線形狀也必須依不同的凈室檔次加以適當的控制。
凈室是一種以合理的成本開發高質量軟件的基于理論、面向工作組的方法。凈室是基于理論的，因為堅實的理論基礎是任何工程學科所不可缺少的。再好的管理也代替不了理論基礎。凈室是面向工作組的，因為軟件是由人開發出來的，并且理論必須簡化到實際應用才能引導人的創造力和協作精神。凈室是針對經濟實用軟件的生產的，因為在現實生活中，業務和資源的限制必須在軟件工程中予以滿足。后，凈室是針對高質量軟件的生產的，因為高質量改進管理，降低風險及成本，滿足用戶需求，提供競爭優勢。
單層廠房在滿足一定建筑模數要求的基礎上視工藝需要確定其建筑寬度（跨度）、長度和高度。廠房的跨度B：一般為6、9、12、15、18、21、24、27、30、36m……。廠房的長度L：少則幾十米，多則數百米。廠房的高度H：低的一般5～6m，高的可達30～40m，甚至更高。廠房的跨度和高度是廠房照明設計中考慮的主要因素。
另外，根據工業生產連續性及工段間產品運輸的需要，多數工業廠房內設有吊車，其起重量輕的可為3～5t，大的可達數百噸（機械行業單臺吊車起重量可達800t）。因此，工廠照明通常采用裝在屋架上的燈具來實現。